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南亚国家知识产权环境研究——以巴基斯坦为例

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(二)集成电路布图设计 返回

巴基斯坦为《世界贸易组织协定》和《与贸易有关的知识产权协定》签署国,为与符合上述两个协议的规定,巴基斯坦政府于2000年9月颁布实施了《集成电路布图设计法案(2000年)》,通过对集成电路布图设计在法律上和采取相关措施予以保护,为半导体集成电路的发展提供保障,以消除国际贸易的障碍和壁垒,对知识产权进行有效保护,提升巴基斯坦技术发展水平。

1.保护要件

(1)集成电路布图设计的定义

“集成电路”是指一个产品,将至少有一个是有源元件的部分或全部元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。

“布图设计”是指集成电路中至少有一个是有源元件的部分或者全部的元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

(2)保护的对象

一个布图设计应该被认为具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且集成电路的布图设计在创作时不能让其他创造者和制造商知晓。如果组合采取整体符合分段规定的条件,由组合元素和互连组合组成的布图设计应被认为是被保护的。

(3)保护的内容

布图设计受保护的权利应该属于布图设计的设计者,参与布图设计的部分人也同样享有相同的权利。

当布图设计已经设计完成时,执行委托或者雇佣契约时,布图设计被保护的权利应该属于被委任工作的人或雇员,相反缺乏合同的规定的人不享有此权利。

布图设计受保护的权利应该是可转让的或可指定继承的。布图设计保护权不得取决于是否将包含注册布图设计的集成电路纳入保护。

集成电路布图设计对所有权人的以下行为进行保护:

①复制,是指重复制作布图设计或者含有这个该集成电路布图设计的行为。

②贸易进口,以商业为目的销售或者以其他方式提供受保护的布图设计或者含有该集成电路的物品的行为包含在非法复制布图设计内。

下列行为不能被享有受集成电路布图设计保护的权利:以评价、分析、研究、教学等私人的目的出售已注册的布图设计的复制品;建立在类似分析、评估的基础上合并在布图设计法案中受保护的集成电路布图设计。任何关于注册布图设计的行为,或就集成电路而进行的已被保护的布图设计,需要经过权利持有者或权利人的同意才可投入市场。

任何设计非法复制集成电路布图设计或包含这种集成电路任何物品的任何行为,其中在不知道它以包含了非法重现的布图设计的情况下执行或者命令收购此类集成电路或集成此类集成电路时,在该人已得知布图设计是非法复制之后,该人可以在并且仅能在该时间之前订购股票并可执行上述行为,否则有责任向权利持有者支付合理使用费的款项,例如根据这种布图设计自由谈判支付费用。第三方独立设计布图设计同样享有布图设计受保护的权利

凡申请已签署注册,则该人可在注册公布后三年内,以书面要求控权人将注册转让予他,并据此更正布局设计注册纪录册的记项;

专利局应立即向权利持有人发送此类请求的副本,并在规定的期限内以订明的方式,向权利人发送其所依赖理由的反陈述;

如权利人发出反陈述,专利局应提出请求转让的人的副本,并在听取当事人之后,如果其中一项或两项均被审理,并考虑案件的是非曲直,须决定是否应移转申请或注册,以及在适用情况下,是否应更正布图设计注册纪录册;

(4)更改受保护的布局设计的所有权

任何受保护布图设计所有权的变更者均须以书面形式作出。一旦布局设计已经注册,根据任何有关方的请求,向专利局提交的所有权变更应由主计长记录和公布。

(5)撤销权

任何人均可基于以下理由申请撤销布图设计的注册:布局设计不能根据布图设计法案予以保护;权利人无权享受保护;在提交注册申请之前,布局设计在世界上任何地方都没有被商业利用。

如果取消的理由仅针对布图设计的一部分确定,则只取消注册的相应部分。取消布图设计的注册的申请,须以书面提交区域法院,该项请求须述明其所依据的理由。任何被取消的布图设计注册或其一部分,自保护开始之日起视为无效

(6)集成电路布图设计保护的期限

布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。

2.申请程序

(1)管理机构

集成电路布图设计的管理机构为专利局。

(2)申请条件

集成电路指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。 它是微电子技术的核心,电子信息技术基础。广泛应用于计算机,通讯设备,家用电器等电子产品。具备集成性,整体性及工艺严格性。

(3)申请文件构成

每个集成电路布图设计都必须载入专利局设立“专利注册薄”,包括布图设计的首次商业开发的编号、名称、申请日期及日期,以及权利持有人的姓名及地址及其他订明费用。任何人士在缴付订明费用后,可查阅专利登记簿的相关记录并取得其摘录。

(4)外国人申请的相关事项

如果申请人居住地在巴基斯坦境外,应由其居住在巴基斯坦并在巴基斯坦执业法律代表进行申请。

(5)申请流程

申请布图设计专利需要向专利局提交一份书面的申请。每一个布图设计都应该提交各自的申请。申请布图设计专利时需要一份证明该布图设计从未被商业利用或者该布图设计已被商业利用但未超过两年。

申请材料包括:包含一份关于一份注册布图设计的委托说明和一份简短精确的指定说明;在申请里表明名字、住址、国籍,如果有不同的地址填惯常的住址;申请人可委托律师作为代理人;申请人须提交布图设计图和集成电路样本的副本,以及集成电路的电子功能的信息,但是申请人可以省略集成电路的制造方式,只需要提供部分就足够;专利局支付规定的费用;指定世界上某地的第一次商业开发布图设计的日期;确定布图设计保护权的细节

(6)缺陷修改

专利局应当告知应用程序缺陷,要求申请人在规定的时限内进行必要的修正。如果缺陷在规定的时限内没有得到纠正,则该申请应被视为没有提交。

3.侵权与诉讼

(1)侵权的界定

权利人的请求或是他的许可,如果后者诉讼要求权利人为研究院提供特定的救济,权利人拒绝或未能在合理期限内做到,地区法院可以给于相关法律的禁令规定。

(2)诉讼

应该到高等法院提出上诉以防止产生与申请本条例有关的纠纷案件和根据本条例须向区法院提交的事务。若违反联邦政府相关决议,应该到高级法院上诉。若任何缔约方违反了专利局根据集成电路布图设计法案的决定,就应该向高级法院上诉,且这样的上诉需要在从违反那天起两个月内提交。

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