全文下载报告浏览首 页

研究报告浏览、查询及下载

澳大利亚、新西兰知识产权制度环境研究

正文

浏览量:64
(四)布图设计的保护及保护期 返回

与著作权一样,在澳大利亚并没有专门的布图设计权登记制度,布图设计权采“自动取得”制度,作品自创作完成便自动受到《1989年集成电路布图设计法》的保护。有部分网站会宣称提供在澳大利亚的布图设计权保护或者提供所谓的“注册”服务,这很大程度上只是这些网站的噱头,事实上并无权提供此类服务。这与中国集成电路布图设计的申请保护制不同。

布局设计的主管机关与著作权的相同,均为澳大利亚政府下属传播与艺术部门(Department of Communications and the Arts)

布图设计保护期,就符合条件的布图而言,指从布图设计制定当日开始至结束的期间:

布图设计专有权的保护期是从布图设计制造完成开始计算,如果布图设计在完成制造后的10年内被投入商业利用,则以被投入商业利用的日期起计算,10年后结束;在其他情况下,布图设计自创作完成之日起10个日历年后,不再受保护。

所以布图设计保护的期限为自创作完成之日起10至20年,最长期限为20年。而我国保护的布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。


上一页 下一页

主办单位:国家知识产权局  |  网站管理:国家知识产权局规划司  |  网站维护:中国知识产权研究会  知识产权出版社

版权所有:国家知识产权局 未经许可不得复制 ICP备案编号:京ICP备05069085号